E2C HP en una prensa

E2C HP

Variante de alta potencia de la lámpara E2C de GEW, diseñada para aplicaciones de baja migración y/o impresión de alta velocidad.

E2C HP

E2C HP comprende un casete estándar de lámpara UV E2C alojado en una carcasa más grande para permitir una mayor refrigeración por aire y, por lo tanto, una mayor potencia de funcionamiento, hasta 180 W/cm. Perfecto para aplicaciones de baja migración o de alta velocidad de impresión de hasta 80 cm de ancho, cuenta con la misma fiabilidad y diseños de reflectores patentados contenidos en el producto E2C más popular de GEW.

E2C HP sigue siendo compatible con la impresión en la más amplia gama de materiales sensibles al calor porque nuestros reflectores enfriados activamente por aire reducen la transferencia de calor al sustrato. También cuenta con el famoso diseño de casete de cambio rápido de GEW que permite instalar una nueva lámpara en menos de 2 minutos con sólo una herramienta de llave hexagonal.

La fiabilidad está garantizada y cuando funciona con el sistema RHINO de GEW, el E2C HP puede adquirirse con una garantía de 5 años, lo que significa que no hay costes de mantenimiento imprevistos mucho más allá del período de retorno de la inversión.

E2C HP puede integrarse y personalizarse para adaptarse a una amplia gama de máquinas de impresión y revestimiento. Los técnicos experimentados de GEW estarán encantados de ayudarle a comprender mejor sus necesidades.

*Este folleto está en inglés.

E2C HP

Ventajas de E2C HP

  • Medida de sostenibilidad fácilmente implementada – Reducción inmediata de la huella de CO2; funcionamiento fresco y silencioso sin necesidad de refrigeración por agua costosa; eliminación de todo el consumo de aire acondicionado ambiente con la opción de refrigeración NetZero
  • Máxima productividad de la máquina – Tecnología de lámpara de encendido rápido, el sistema evita proactivamente el tiempo de inactividad no planificado, coherente, de curado de alta velocidad, rápido de instalar
  • Disponible con curado de atmósfera inerte – Permite la producción de revestimientos a liberación de silicona y envasado de alimentos; consistencia del proceso asegurada con un control de precisión integrado del nivel de oxígeno; soluciones totalmente diseñadas para adaptarse a su aplicación específica
  • Opciones flexibles – Lámparas dopadas (Fe, Ga), personalización para adaptarse a aplicaciones especializadas, control de UV multipunto
  • 5 años de garantía – Salvaguardas contra los gastos de mantenimiento no planificados
  • LED preparado – Actualizar fácilmente el curado UV de los LED en el futuro utilizando la misma fuente de alimentación híbrida RHINO ArcLED

En funcionamiento E2C HP


Especificación E2C HP

Máxima potencia eléctrica180W / cm
EspectroMercurio**
Irradiación en el punto focal7.3W / cm²*
Dosis típica @ 100m / min165mJ / cm²*
Longitud máxima80cm
Sección transversal estándar110mm anchura x 236mm altura
EnfriamientoAire
Temperatura máxima de funcionamiento estándar40°C (104°F)
Humedad máxima estándarSin condensación
*Medido bajo las condiciones estándar del laboratorio GEW con una configuración estándar de la lámpara.
**Variantes de lámparas disponibles bajo solicitud.

*Este folleto está en inglés.


Compatible con ArcLED

Este video ilustra el proceso ArcLED en menos de 1 minuto.

La tecnología híbrida UV ArcLED permite intercambiar una lámpara de arco UV o un conjunto de LEDs en la misma carcasa.

Optimiza tu prensa con una combinación de curado Arc y LED en cualquier estación para la máxima flexibilidad.

GEW ha mantenido patentes internacionales sobre esta tecnología desde 2016.

ArcLED de GEW

Para saber más sobre cómo pueden beneficiar a su negocio las capacidades de ArcLED de E2C HP, descargue nuestro folleto que se incluye a continuación:


Vea nuestro vídeo de estudio del caso E2C

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