E4C
E4C ofrece la mayor potencia disponible de la gama GEW, para soportar las aplicaciones de curado UV más exigentes y las velocidades de impresión más rápidas en máquinas de red o de hojas. Realiza hasta los más exigentes procedimientos de prueba de curación y es adecuado para aplicaciones de baja migración.
El E4C tiene reflectores ópticamente ajustados para maximizar el poder de curado y funciona silenciosamente, con mínimos requerimientos de aire. Con la tecnología de monitorización, el caudal de agua está garantizado en todo momento, y los reflectores refrigerados por agua del E4C soportan la mayor potencia UV al tiempo que limitan la transferencia de calor al sustrato, haciéndolo seguro para una amplia gama de materiales sensibles al calor.
Está diseñado para funcionar con el nivel más bajo de mantenimiento con el fin de que los cambios de lámpara sean rápidos y fáciles. Todos los componentes reemplazables son de tipo “plug-and-play”, y los reflectores pueden ser limpiados y reemplazados completamente sin romper los sellos de agua. Además, los mecanismos de los reflectores y los sellos se prueban en millones de operaciones para asegurar su fiabilidad.
El E4C también está preparado para LED: su carcasa de lámpara híbrida puede alojar casetes de lámparas de arco de LED, E2C o E4C. Tiene un perfil compacto para adaptarse a la más amplia gama de máquinas y se puede adaptar a todas las instalaciones de E2C.
También está disponible con un control de UV multipunto y opciones de curado con gas inerte.
Ventajas de E4C
- Potencia máxima – Alta potencia 220W/cm en el perfil de lámpara E2C estándar de GEW para las aplicaciones de impresión más exigentes
- Fácil mantenimiento – Diseñado para cambios rápidos y sencillos de lámparas y fácil sustitución del reflector sin romper los sellos de agua
- Flexibilidad – Los casetes E2C, E4C y LeoLED caben en la misma caja para una mayor flexibilidad de la configuración de la prensa y actualizaciones rentables de los sistemas existentes
- Máxima productividad de la máquina – Tecnología de lámpara de encendido rápido, el sistema evita proactivamente el tiempo de inactividad no planificado, coherente, de curado de alta velocidad
- 5 años de garantía – Salvaguardas contra los gastos de mantenimiento no planificados
- Opciones – Lámparas dopadas (Fe, Ga), personalización para adaptarse a las aplicaciones especializadas, curado en atmósfera inerte, control de UV multipunto
Especificación E4C
| Máxima potencia eléctrica | 220W / cm |
| Espectro | Mercurio** |
| Irradiación en el punto focal | 10.7W / cm²* |
| Dosis típica @ 100m / min | 220mJ / cm²* |
| Longitud máxima | 170cm |
| Sección transversal estándar | 110mm anchura x 190mm altura |
| Enfriamiento | Aire y agua |
| Temperatura máxima de funcionamiento estándar | 40°C (104°F) |
| Humedad máxima estándar | Sin condensación |
**Variantes de lámparas disponibles bajo solicitud.
Compatible con ArcLED
La tecnología híbrida UV ArcLED permite intercambiar una lámpara de arco UV o un conjunto de LEDs en la misma carcasa.
Optimiza tu prensa con una combinación de curado Arc y LED en cualquier estación para la máxima flexibilidad.
GEW ha mantenido patentes internacionales sobre esta tecnología desde 2016.
Para saber más sobre cómo pueden beneficiar a su negocio las capacidades de ArcLED de E4C, descargue nuestro folleto que se incluye a continuación:
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